Високопродуктивне прямолінійне джерело вакуумно-дугової катодної плазми з фільтруванням від макрочасток

Область дослідження – плазма.

Призначення – для ефективного покриття різного роду поверхонь.

Сфера застосування:

– нанесення різного роду покриттів:

– зносостійкі покриття з низьким коефіцієнтом на елементах тертя деталей машин і механізмів в інструментальній промисловості, машинобудуванні, текстильній промисловості і т.д.;

– багатокомпонентні зносостійкі покриття на основі нітриду, карбідів, окислів і їх сумішей для зміцнення прецизійного інструменту, лопаток компресорів і турбін авіаційних двигунів;

– біологічно інертні покриття, оптичні прозорі, діелектричні, корозійностійкі покриття, хімічно інертні покриття.

Опис. У джерелі плазми реалізована конфігурація транспортуючого магнітного поля, системи рефлекторів і пасток макрочасток, яка дозволяє забезпечити високу якість покриттів при істотному збільшенні генерації очищених потоків плазми в порівнянні з існуючими системами фільтрації вакуумно-дугової плазми.

Переваги:

  1. Функціональні переваги:

– збільшення продуктивності устаткування в 1,5-2 рази;

– рівномірність покриття ± 5% по товщині;

– виключення етапів полірування після нанесення покриття.

  1. Експлуатаційні переваги:

– стабільність джерела незалежно від ступеня вигоряння катода;

– конструкторська простота.

  1. Фінансові переваги:

– економія витрат за рахунок зростання продуктивності;

– економія витрат за рахунок виключення етапу полірування;

– металоємність джерела менша, ніж у криволінійних фільтрів.

Новизна. 3 патенти України. 4 патенти інших країн.

Стадія готовності. Впроваджено у виробництво.

Пропозиції щодо співробітництва. Продаж ліцензій. Реалізація готової продукції. Спільне виробництво, продаж, експлуатація.

Детальніше…