Призначення. Для проведення іонної імплантації матеріалів одно/двозарядними іонами металів (Be, Fe, Cr, Ni, Zr, Mo, W та інші) та імітаційних досліджень впливу іонного опромінення на конструкційні матеріали ядерної та термоядерної техніки.
Технічні характеристики:
- Тип іонів пучка Be, Fe, Cr, Ni, Zr, Mo, W
- Струм іонів, мкА 10—200
- Енергія іонів, кеВ 30
- Зарядність іонів +1, +2
- Споживана потужність, Вт 1000.
Галузь застосування. Енергетика, ядерна енергетика.
Переваги. Джерело металевих іонів дає змогу генерувати пучки одно- та двозарядних іонів металів на основі іонно-плазмового розпилення. Застосований в іонному джерелі спосіб створення робочого середовища дозволяє формувати атомарну концентрацію та плазму високої густини практично будь-яких металів (Be, Fe, Cr, Ni, Zr, Mo, W та ін.) без необхідності нагрівати джерело до високих температур.